| 企业名称 | 无锡邑文电子科技有限公司 | ||||
| 联 系 人 | 秦开举 | 电 话 | |||
| 地 址 | 无锡市新吴区观山路1号 | 电子邮箱 | |||
| 产业领域 | □物联网 ☑集成电路 □生物医药 □软件信息□高端装备 □纺织服装 □节能环保 □新材料 □新能源 □汽车及零部件□人工智能 □量子科技 □化合物半导体 □氢能和储能 □深海装备□其他： | ||||
| 企业简介（300字以内）：邑文科技成立于2011年，主营业务为半导体前道工艺设备的研发、制造，公司主要产品为刻蚀工艺设备和薄膜沉积工艺设备，应用于半导体（IC及OSD）前道工艺阶段，尤其是化合物半导体和MEMS等特色工艺领域。公司总部位于无锡市观山路一号，制造中心位于南通市如东金山路一号。制造中心配备有超过2000平米的万级无尘室和全特气通入的千级无尘实验室。邑文科技秉持“态度、品质、效率”的企业文化，深耕于半导体设备行业，一直致力于为国家半导体设备产业的国产化做出贡献。 | |||||
| 技术（项目）名称 | 化合物领域ICP刻蚀系列产品 | ||||
| 先进水平 | □国际领先 □国际先进 R国内领先 □国内先进 | ||||
| 所处阶段 | □研发 R小试 □中试 | ||||
| 拟投入资金额（万元） | 8000 | 已投入资金额（万元） | 6500 | ||
| 技术（项目）简介（200字以内）： 受新能源汽车，新能源储电，通信等行业的发展，化合物市场应用越来越成熟；化合物半导体的市场也越来越大，我们在化合物半导体领域一直在做工艺的研发；在ICP刻蚀产品的研发上，我们分为三个阶段：1.标准版ICP刻蚀机，主要对Si刻蚀、POLY刻蚀、SiC刻蚀、GaN刻蚀等工艺应用（已量产）；2.金属刻蚀机，主要对Al、Ti、W、Mo等金属材料的刻蚀（试产阶段）；3.深Si刻蚀机，主要对Si沟槽或通孔的刻蚀（试产阶段）。 | |||||
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